热解氮化硼坩埚的研制及其在分子束外延中的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 赵凤鸣 ; 黄运衡 |
| 刊名 | 硅酸盐通报
 |
| 出版日期 | 1986-10-28 |
| 期号 | 5页码:28-33 |
| 关键词 | 分子束外延:7080 氮化硼:3372 真空性能:3096 物理和化学性能:2656 七十年:2046 热解:2038 六十年代:1912 陶瓷材料:1835 单晶薄膜:1815 喷射炉:1784 |
| 中文摘要 | <正> 一、序言热解氮化硼(Pyrolytic Boron Nitride,简称PBN)是特种陶瓷材料,有各向异性和各向同性之分。据文献报导,前者用途较广,而后者尚限于几方面的应用。本文研究前者。PBN材料,从资料推测在六十年代末、七十年代初期,国外从研究已进入生产阶段。开始有商品出售。如今已广泛地用于宇航、电子、电工、化工、冶金、医疗等各领域。由于它的物理和化学性能比较稳定,真空性能好,在半导体材料的制备上有 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29551]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵凤鸣,黄运衡. 热解氮化硼坩埚的研制及其在分子束外延中的应用[J]. 硅酸盐通报,1986(5):28-33. |
| APA | 赵凤鸣,&黄运衡.(1986).热解氮化硼坩埚的研制及其在分子束外延中的应用.硅酸盐通报(5),28-33. |
| MLA | 赵凤鸣,et al."热解氮化硼坩埚的研制及其在分子束外延中的应用".硅酸盐通报 .5(1986):28-33. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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