Pd-Si薄膜固相反应的透射电子显微镜研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张京,刘安生,吴自勤,郭可信 |
| 刊名 | 物理学报
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| 出版日期 | 1986-07-30 |
| 期号 | 7页码:965-968+970-974 |
| 关键词 | Si薄膜:5337 Pd膜:5131 透射电子显微镜:3251 固相反应:3190 外延:2777 织构:2552 退火温度:1741 衍射图:1698 图版:1556 取向关系:1360 |
| 中文摘要 | 本工作利用透射电子显微术研究了Pd-Si薄膜固相反应的初始生成相及生成相Pd_2Si与(111)取向Si衬底的取向关系随Pd膜厚度、退火温度等因素的变化规律。实验结果表明:在衬底保持室温的条件下,Pd沉积到Si(111)上时也能够生成一层外延的Pd_2Si,其厚度足以在常规的选区电子衍射中产生明显的信号。在170℃退火时,Pd-Si反应即可持续到生成200nm厚的外延的Pd_2Si。在Pd膜厚度为400nm的条件下,Pd_2Si与Si(111)衬底的取向关系为[0001]_(Pd_2Si)轴织构。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29574]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张京,刘安生,吴自勤,郭可信. Pd-Si薄膜固相反应的透射电子显微镜研究[J]. 物理学报,1986(7):965-968+970-974. |
| APA | 张京,刘安生,吴自勤,郭可信.(1986).Pd-Si薄膜固相反应的透射电子显微镜研究.物理学报(7),965-968+970-974. |
| MLA | 张京,刘安生,吴自勤,郭可信."Pd-Si薄膜固相反应的透射电子显微镜研究".物理学报 .7(1986):965-968+970-974. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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