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离子镀 Ti-N 涂层界面结构的电镜研究

文献类型:期刊论文

作者闻立时,姜辛,斯重遥,陈朗,赵庆海
刊名无机材料学报
出版日期1986-07-02
期号2页码:153-159
关键词离子镀 涂层 界面结构
中文摘要采用透射电镜及 μ-μ-Diff.技术,通过对平行和垂直基体表面薄膜试样的观察,确定了离子镀 Ti-N 涂层中 α-Fe 基材—α-Ti 底层及 α-Ti 底层—TiN 层之间 FeTi、Ti_2N 界面相的存在。进一步的 μ-μ-Diff.分析,得到了α-Fe-FeTi、FeTi-α-Ti、α-Ti-Ti_2N、Ti_2N-TiN 各相间的取向关系。并由此推断了涂层相界的原子排列结构。最后,简单地讨论了界面相的形成机制及其对界面结合强度的作用。
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29577]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
闻立时,姜辛,斯重遥,陈朗,赵庆海. 离子镀 Ti-N 涂层界面结构的电镜研究[J]. 无机材料学报,1986(2):153-159.
APA 闻立时,姜辛,斯重遥,陈朗,赵庆海.(1986).离子镀 Ti-N 涂层界面结构的电镜研究.无机材料学报(2),153-159.
MLA 闻立时,姜辛,斯重遥,陈朗,赵庆海."离子镀 Ti-N 涂层界面结构的电镜研究".无机材料学报 .2(1986):153-159.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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