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Ga在Ni(111)表面上形成的超结构

文献类型:期刊论文

作者屠礼勋,孙玉珍
刊名物理学报
出版日期1985-07-30
期号7页码:964-967
关键词超结构:8438 蒸镀:3290 LEED:2453 覆盖度:2238 热蒸发源:1628 低能电子衍射:1158 Ni衬底:1074 活动挡板:848 观察到:743 蒸发物:714
中文摘要使用自制的简易蒸发源,将金属Ga蒸镀在Ni(111)表面上。在亚单层时,用低能电子衍射(LEED)和俄歇电子能谱(AES)观测到Ga在Ni(111)面上形成(3(1/2)×3(1/2))R30°和(2×2)两种超结构。并建立起近似平衡图,粗略地确定了这两种超结构存在的覆盖度和温度范围。
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29668]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
屠礼勋,孙玉珍. Ga在Ni(111)表面上形成的超结构[J]. 物理学报,1985(7):964-967.
APA 屠礼勋,孙玉珍.(1985).Ga在Ni(111)表面上形成的超结构.物理学报(7),964-967.
MLA 屠礼勋,孙玉珍."Ga在Ni(111)表面上形成的超结构".物理学报 .7(1985):964-967.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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