热解氮化硼(PBN)坩埚的研制及在分子束外延中的应用
文献类型:期刊论文
作者 | 赵凤呜,黄运衡 |
刊名 | 稀有金属
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出版日期 | 1985-03-02 |
期号 | 1页码:1-3 |
关键词 | 分子束外延:9068 氮化硼:3656 热解:876 工艺流程:861 坩埚:772 单晶薄膜:708 载流子浓度:699 新型陶瓷材料:695 液相外延:652 电子迁移率:627 |
中文摘要 | <正> 一、前言热解氮化硼(PBN)是一种新型陶瓷材料。这种材料有各向异性与各向同性之分。据文献报道前者用途较广,而后者尚限于几方面的应用。本文研究前者。PBN 材料,从六十年代末,七十年代初国外已从研究进入生产,开始有商品出售,如今已广泛应用在宇航、电子、电工、化工、冶金、医疗等各领域。由于PBN 的物理和化学性能比较稳定,在半导体材料的制备上有着特殊的价值。如分子束外延用坩埚、到液相外延用的舟皿、砷化镓单晶坩埚都要用它。分子束外延用束源坩埚 |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29700] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵凤呜,黄运衡. 热解氮化硼(PBN)坩埚的研制及在分子束外延中的应用[J]. 稀有金属,1985(1):1-3. |
APA | 赵凤呜,黄运衡.(1985).热解氮化硼(PBN)坩埚的研制及在分子束外延中的应用.稀有金属(1),1-3. |
MLA | 赵凤呜,黄运衡."热解氮化硼(PBN)坩埚的研制及在分子束外延中的应用".稀有金属 .1(1985):1-3. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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