辉光放电发射光谱在金属表面逐层分析上的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张功杼 ; 任建世 |
| 刊名 | 光谱学与光谱分析
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| 出版日期 | 1983-06-30 |
| 期号 | 3页码:21-26+20 |
| 关键词 | 辉光放电灯:4790 发射光谱:4028 金属表面:3600 化学成份:3218 逐层分析:3211 表面分析技术:3135 光谱分析:2557 热处理过程:1990 二次离子质谱:1890 俄歇电子能谱:1810 |
| 中文摘要 | <正> 引言金属与合金表面的物理化学性质决定了它们的腐蚀、氧化、磨擦和磨损的性能和与保护涂层的粘结性,所以对金属表面的研究引起广泛的注意。对于冶金工作者来说,测定合金热处理和化学热处理过程各个阶段产品的表面化学成份是极为重要的。目前常用的一些表面分析技术,如俄歇电子能谱(AES),二次离子质谱(SIMS)和光电子能谱(ESCA或XPS)等,由于它们的技术复杂,设备昂贵,未能得到广泛的工业应用。因此寻找一种快速、简便并能 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/29832]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张功杼,任建世. 辉光放电发射光谱在金属表面逐层分析上的应用[J]. 光谱学与光谱分析,1983(3):21-26+20. |
| APA | 张功杼,&任建世.(1983).辉光放电发射光谱在金属表面逐层分析上的应用.光谱学与光谱分析(3),21-26+20. |
| MLA | 张功杼,et al."辉光放电发射光谱在金属表面逐层分析上的应用".光谱学与光谱分析 .3(1983):21-26+20. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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