镍清洁表面制备中去除碳的一种简便方法
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李日升,张文林,谢天生,孙玉珍 |
| 刊名 | 物理学报
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| 出版日期 | 1980-04-30 |
| 期号 | 4页码:529-532 |
| 关键词 | 清洁表面:6385 除碳:5107 简便方法:3386 电子伏特:2112 氩离子:2068 俄歇谱:1996 氧的吸附:1771 单晶表面:1458 金属研究所:1426 碳和氧:1279 |
| 中文摘要 | 单用氩离子剥离很难完全去掉镍表面上的碳。在10~(-8)—10~(-9)托下用电子轰击加速氧的吸附,使残留着碳的镍表面吸附一定的氧;再将这个表面加热到360℃保温45分钟,获得了一个无碳的原子级清洁表面。讨论了利用氧去除碳的条件和机制。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/30027]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李日升,张文林,谢天生,孙玉珍. 镍清洁表面制备中去除碳的一种简便方法[J]. 物理学报,1980(4):529-532. |
| APA | 李日升,张文林,谢天生,孙玉珍.(1980).镍清洁表面制备中去除碳的一种简便方法.物理学报(4),529-532. |
| MLA | 李日升,张文林,谢天生,孙玉珍."镍清洁表面制备中去除碳的一种简便方法".物理学报 .4(1980):529-532. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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