近α-Ti合金Ti_3Si相电子衍射分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李永森 |
| 刊名 | 金属学报
 |
| 出版日期 | 1979-05-01 |
| 期号 | 4页码:566-568+597 |
| 关键词 | 四方晶格:5424 衍射方法:4392 晶格常数:4088 相结构因子:3999 相图:2223 电子衍射花样:1861 计算值:1767 电子衍射分析:1759 合金薄膜:1403 硅化物:1402 |
| 中文摘要 | <正> 在近α-Ti合金中加入适量的Si,能提高其高温强度。Si与Ti、Zr形成细小的硅化物相,分布于α相的内部和边界,起到强化作用。我们曾用电子衍射方法,对几种含Si的钛合金的弥散相进行分析。结果,除了(Ti,Zr)_5Si_3和Zr_5Si_3两种六方晶格的硅化物相外,许多含硅的钦合金也存在四方晶格的TiSi相。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/30059]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李永森. 近α-Ti合金Ti_3Si相电子衍射分析[J]. 金属学报,1979(4):566-568+597. |
| APA | 李永森.(1979).近α-Ti合金Ti_3Si相电子衍射分析.金属学报(4),566-568+597. |
| MLA | 李永森."近α-Ti合金Ti_3Si相电子衍射分析".金属学报 .4(1979):566-568+597. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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