Effect of deposition temperature on phase formation in Nb/Si multilayers
文献类型：期刊论文
| 作者 | M. Zhang ; W. Yu ; W. K. Wang |
| 刊名 | Journal of Materials Science Letters
 |
| 出版日期 | 1997 |
| 卷号 | 16期号:3页码:241-243 |
| 关键词 | thin-films interfacial reactions silicide formation initial-stage metal (111)si nucleation diffusion systems |
| ISSN号 | 0261-8028 |
| 原文出处 | |
| 公开日期 | 2012-04-14 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/38210]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | M. Zhang,W. Yu,W. K. Wang. Effect of deposition temperature on phase formation in Nb/Si multilayers[J]. Journal of Materials Science Letters,1997,16(3):241-243. |
| APA | M. Zhang,W. Yu,&W. K. Wang.(1997).Effect of deposition temperature on phase formation in Nb/Si multilayers.Journal of Materials Science Letters,16(3),241-243. |
| MLA | M. Zhang,et al."Effect of deposition temperature on phase formation in Nb/Si multilayers".Journal of Materials Science Letters 16.3(1997):241-243. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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