强CO_2激光退火时离子注入Si的光学性质
文献类型:期刊论文
作者 | 李元恒![]() |
刊名 | 光学学报
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出版日期 | 1982 |
卷号 | 2期号:3页码:285-288 |
关键词 | 离子注入 光学性质 激光退火 CO_2激光 注入层 激光辐照 椭圆偏振光 样片 反射率 |
ISSN号 | 0253-2239 |
通讯作者 | 李元恒 |
中文摘要 | 本文测量了砷离子(As~+)注入的Si在连续CO_2激光辐照下光的椭圆偏振参数、反射率、表面薄层电阻率随时间的变化。从(?)、△、R、ρ的变化看出Si注入层的激光退火是在一定的时间、温度条件下迅速完成的。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2009-08-03 ; 2010-08-20 |
源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/37986] ![]() |
专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
通讯作者 | 李元恒 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李元恒. 强CO_2激光退火时离子注入Si的光学性质[J]. 光学学报,1982,2(3):285-288. |
APA | 李元恒.(1982).强CO_2激光退火时离子注入Si的光学性质.光学学报,2(3),285-288. |
MLA | 李元恒."强CO_2激光退火时离子注入Si的光学性质".光学学报 2.3(1982):285-288. |
入库方式: OAI收割
来源:力学研究所
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