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强CO_2激光退火时离子注入Si的光学性质

文献类型:期刊论文

作者李元恒
刊名光学学报
出版日期1982
卷号2期号:3页码:285-288
关键词离子注入 光学性质 激光退火 CO_2激光 注入层 激光辐照 椭圆偏振光 样片 反射率
ISSN号0253-2239
通讯作者李元恒
中文摘要本文测量了砷离子(As~+)注入的Si在连续CO_2激光辐照下光的椭圆偏振参数、反射率、表面薄层电阻率随时间的变化。从(?)、△、R、ρ的变化看出Si注入层的激光退火是在一定的时间、温度条件下迅速完成的。
语种中文
公开日期2009-08-03 ; 2010-08-20
源URL[http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/37986]  
专题力学研究所_力学所知识产出(1956-2008)
通讯作者李元恒
推荐引用方式
GB/T 7714
李元恒. 强CO_2激光退火时离子注入Si的光学性质[J]. 光学学报,1982,2(3):285-288.
APA 李元恒.(1982).强CO_2激光退火时离子注入Si的光学性质.光学学报,2(3),285-288.
MLA 李元恒."强CO_2激光退火时离子注入Si的光学性质".光学学报 2.3(1982):285-288.

入库方式: OAI收割

来源:力学研究所

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