Enhancement of ZnO ultraviolet emission by surface plasmon coupling using a rough NiSi2 layer synthesized by ion implantation
文献类型：期刊论文
| 作者 | Tan, Hairen ; You, Jingbi ; Zhang, Shuguang ; Gao, Hongli ; Yin, Zhigang ; Bai, Yiming ; Zhang, Xiulan ; Zhang, Xingwang ; Qu, Sheng |
| 刊名 | journal of semiconductors
 |
| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 32期号:10页码:102002 |
| ISSN号 | 16744926 |
| 关键词 | Metallic films Plasmons Silicides Zinc oxide |
| 通讯作者 | tan, h.(hrtan@semi.ac.cn) |
| 学科主题 | 半导体材料 |
| 收录类别 | EI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2012-06-14 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23141]  |
| 专题 | 半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Tan, Hairen,You, Jingbi,Zhang, Shuguang,et al. Enhancement of ZnO ultraviolet emission by surface plasmon coupling using a rough NiSi2 layer synthesized by ion implantation[J]. journal of semiconductors,2011,32(10):102002. |
| APA | Tan, Hairen.,You, Jingbi.,Zhang, Shuguang.,Gao, Hongli.,Yin, Zhigang.,...&Qu, Sheng.(2011).Enhancement of ZnO ultraviolet emission by surface plasmon coupling using a rough NiSi2 layer synthesized by ion implantation.journal of semiconductors,32(10),102002. |
| MLA | Tan, Hairen,et al."Enhancement of ZnO ultraviolet emission by surface plasmon coupling using a rough NiSi2 layer synthesized by ion implantation".journal of semiconductors 32.10(2011):102002. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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