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Computer simulation of ion beam enhanced deposition of titanium nitride films

文献类型:期刊论文

作者Wang Xi ; Zhou Jiankun ; Chen Youshan, Liu Xianghuai and Zou Shichang
刊名Proc. of Mater. Res. Soc., 157(1989)91,
出版日期1989
卷号157页码:91
语种英语
公开日期2012-06-19
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/109096]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
Wang Xi,Zhou Jiankun,Chen Youshan, Liu Xianghuai and Zou Shichang. Computer simulation of ion beam enhanced deposition of titanium nitride films[J]. Proc. of Mater. Res. Soc., 157(1989)91,,1989,157:91.
APA Wang Xi,Zhou Jiankun,&Chen Youshan, Liu Xianghuai and Zou Shichang.(1989).Computer simulation of ion beam enhanced deposition of titanium nitride films.Proc. of Mater. Res. Soc., 157(1989)91,,157,91.
MLA Wang Xi,et al."Computer simulation of ion beam enhanced deposition of titanium nitride films".Proc. of Mater. Res. Soc., 157(1989)91, 157(1989):91.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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