六氟丙烯等离子体聚合膜的结构表征
文献类型:期刊论文
作者 | 王岱珂 ; 陈捷 ; 陈传正 |
刊名 | 辐射研究与辐射工艺学报
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出版日期 | 1988 |
卷号 | 6期号:3页码:6-10 |
关键词 | 等离子体 六氟丙烯 |
ISSN号 | 1000-3436 |
中文摘要 | 应用ESCA、~(19)F-NMR和IR研究了六氟丙烯等离子体聚合膜的组成与结构,指出聚合膜的组成与结构,指出聚合膜是高度文化的,分子中有57%的季碳原子都连有CF_3基团。同时也找出了不同功率等离子体聚合情况下聚合膜组成变化规律,并用IR光谱对该规律进行了验证。发现在高极限功率下,聚合膜组成由于刻蚀反应而发生突变,主要形成较长的含F或无F的Si—O—Si链。 |
收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-06-13 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/45571] ![]() |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王岱珂,陈捷,陈传正. 六氟丙烯等离子体聚合膜的结构表征[J]. 辐射研究与辐射工艺学报,1988,6(3):6-10. |
APA | 王岱珂,陈捷,&陈传正.(1988).六氟丙烯等离子体聚合膜的结构表征.辐射研究与辐射工艺学报,6(3),6-10. |
MLA | 王岱珂,et al."六氟丙烯等离子体聚合膜的结构表征".辐射研究与辐射工艺学报 6.3(1988):6-10. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
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