镥单酞菁和镥双酞菁电子转移过程的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 尹绍明 ; 朱天培 ; 倪嘉缵 |
| 刊名 | 无机化学学报
 |
| 出版日期 | 1987 |
| 卷号 | 3期号:3页码:16-22 |
| 关键词 | 希土酞菁 电子转移 |
| ISSN号 | 1001-4861 |
| 通讯作者 | 尹绍明 |
| 中文摘要 | 本文用循环伏安法研究镥单酞菁和镥双酞菁在非水溶剂中的电化学行为,获得了相应的氧化还原反应半波电位E1/2,测定了其中四个氧化还原反应的电子转移速度常数ks。指出非水溶剂对镥单酞菁和镥双酞菁的电化学行为具有程度不同的影响。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-06-13 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/45829]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 尹绍明,朱天培,倪嘉缵. 镥单酞菁和镥双酞菁电子转移过程的研究[J]. 无机化学学报,1987,3(3):16-22. |
| APA | 尹绍明,朱天培,&倪嘉缵.(1987).镥单酞菁和镥双酞菁电子转移过程的研究.无机化学学报,3(3),16-22. |
| MLA | 尹绍明,et al."镥单酞菁和镥双酞菁电子转移过程的研究".无机化学学报 3.3(1987):16-22. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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