铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究——Ⅳ.有机酸等弱酸添加剂的作用
文献类型:期刊论文
作者 | 阎康平 ; 沈行素 |
刊名 | 应用化学
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出版日期 | 1987 |
卷号 | 4期号:4页码:12-15 |
关键词 | 添加剂浓度 有机酸 酸添加剂 添加剂种类和浓度 交流电侵蚀 电流密度 |
ISSN号 | 1000-0518 |
通讯作者 | 阎康平 |
中文摘要 | 选用了草酸等9种有机酸作为铝箔在盐酸溶液中交流电侵蚀的添加剂。与添加硫酸同样,再一次表明添加剂为形成高质量致密膜因而获得高表面积扩大率所必需。对应于一定频率存在着最佳添加剂浓度C_m,一级电离常数大的酸,相应的C_m低。用有机酸阴离子在铝表面与Cl~-竞争吸附并形成pH缓冲层,从而提高膜的保护性并降低膜的溶解度解释了这些现象。文中讨论了盐酸浓度、电流密度以及Cl~-浓度等对侵蚀过程的影响。 |
收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-06-13 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/45954] ![]() |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 阎康平,沈行素. 铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究——Ⅳ.有机酸等弱酸添加剂的作用[J]. 应用化学,1987,4(4):12-15. |
APA | 阎康平,&沈行素.(1987).铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究——Ⅳ.有机酸等弱酸添加剂的作用.应用化学,4(4),12-15. |
MLA | 阎康平,et al."铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究——Ⅳ.有机酸等弱酸添加剂的作用".应用化学 4.4(1987):12-15. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
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