六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王世才 ; 陈捷 ; 卢丽珍 ; 王凤德 |
| 刊名 | 辐射研究与辐射工艺学报
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| 出版日期 | 1987 |
| 卷号 | 5期号:1页码:27-32 |
| 关键词 | 六甲基二硅氮烷的等离子体聚合 聚六甲基二硅氮烷膜的接触角 八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合 聚八甲基环四硅氧烷膜的接触角 |
| ISSN号 | 1000-3436 |
| 中文摘要 | 在外部电极电容耦合的辉光放电中进行了六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合,考察了压力、功率以及等离子气体对聚合速率的影响。用红外光谱、X—射线衍射和溶解度等方法研究了聚合物的结构,并研究了聚合物的热稳定性、耐溶剂性和疏水性,测定了聚合膜的密度和折射率。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-06-14 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/46014]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王世才,陈捷,卢丽珍,等. 六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合[J]. 辐射研究与辐射工艺学报,1987,5(1):27-32. |
| APA | 王世才,陈捷,卢丽珍,&王凤德.(1987).六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合.辐射研究与辐射工艺学报,5(1),27-32. |
| MLA | 王世才,et al."六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合".辐射研究与辐射工艺学报 5.1(1987):27-32. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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