铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究——Ⅰ.50周交流电侵蚀
文献类型：期刊论文
| 作者 | 沈行素 ; 林海潮 ; 阎康平 |
| 刊名 | 应用化学
 |
| 出版日期 | 1986 |
| 卷号 | 3期号:3页码:40-44 |
| 关键词 | 电位波形 电流密度 铝箔 交流电侵蚀 |
| ISSN号 | 1000-0518 |
| 通讯作者 | 沈行素 |
| 中文摘要 | 研究了电解电容器用铝箔在5MHCl中用50周交流电侵蚀时温度、电流密度、铝箔纯度以及H_2SO_4添加剂等因素对表面积扩大率K值的影响。得到高K值的关键是得到高质量的侵蚀膜,SO_4~(2-)是成膜所必需的。用剥膜称重法得到了不同条件下单位真实表面积上的膜重,结合电位波形图解释了一系列现象。侵蚀过程中出现的表面大量掉落黑粉,箔厚减薄、比容不再随电量而增加的现象与侵蚀孔中pH过高、侵蚀膜(氧化铝)水化程度高、体积大因而堵塞小孔有关。保证有足够的H~+扩散进入孔中是得到高K值的又一关键。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-06-14 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/46264]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 沈行素,林海潮,阎康平. 铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究——Ⅰ.50周交流电侵蚀[J]. 应用化学,1986,3(3):40-44. |
| APA | 沈行素,林海潮,&阎康平.(1986).铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究——Ⅰ.50周交流电侵蚀.应用化学,3(3),40-44. |
| MLA | 沈行素,et al."铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究——Ⅰ.50周交流电侵蚀".应用化学 3.3(1986):40-44. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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