脉冲激光诱导蒸气沉积硅薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 杨静然 ; 彭桂芳 |
| 刊名 | 科学通报
 |
| 出版日期 | 1986 |
| 期号 | 13页码:1000-1002 |
| 关键词 | 激光诱导化学反应 振动模式 固体薄膜 太阳能材料 硅薄膜 |
| ISSN号 | 0023-074X |
| 中文摘要 | 近年来,激光诱导化学反应研究的很广泛。激光的频率调谐到与分子的振荡能级相匹配时,分子的振动模式将受到很大影响。类似分子的激发,可以导致在基板上沉积固体薄膜。硅薄膜在太阳能材料和半导体工业方面是很重要的。它可用不同的方法来制备,其中化 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-06-14 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/46328]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨静然,彭桂芳. 脉冲激光诱导蒸气沉积硅薄膜[J]. 科学通报,1986(13):1000-1002. |
| APA | 杨静然,&彭桂芳.(1986).脉冲激光诱导蒸气沉积硅薄膜.科学通报(13),1000-1002. |
| MLA | 杨静然,et al."脉冲激光诱导蒸气沉积硅薄膜".科学通报 .13(1986):1000-1002. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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