用Nd:YAP激光器诱导蒸气沉积硅薄膜
文献类型:期刊论文
作者 | 杨静然 ; 王连杰 |
刊名 | 应用科学学报
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出版日期 | 1985 |
卷号 | 3期号:3页码:274-276 |
关键词 | X射线衍射图 硅薄膜 |
ISSN号 | 0255-8297 |
中文摘要 | 在室温条件下用脉冲Nd:YAP激光器将光束聚焦在硅片上,使硅原子蒸气在不同基板上沉积成膜.激光器脉宽为300~400微秒,长脉冲经一级放大后在1.075μm波段的能量为每个脉冲8焦尔.蒸发池子用一台机械泵抽到真空度1×1~(-2)乇,用石英或玻璃作窗口.沉积的薄膜具有银灰色光泽.用X射线衍射和金相显微分析法证明所获得的是多晶硅薄膜. |
收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-06-14 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/46446] ![]() |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨静然,王连杰. 用Nd:YAP激光器诱导蒸气沉积硅薄膜[J]. 应用科学学报,1985,3(3):274-276. |
APA | 杨静然,&王连杰.(1985).用Nd:YAP激光器诱导蒸气沉积硅薄膜.应用科学学报,3(3),274-276. |
MLA | 杨静然,et al."用Nd:YAP激光器诱导蒸气沉积硅薄膜".应用科学学报 3.3(1985):274-276. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
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