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用Nd:YAP激光器诱导蒸气沉积硅薄膜

文献类型:期刊论文

作者杨静然 ; 王连杰
刊名应用科学学报
出版日期1985
卷号3期号:3页码:274-276
关键词X射线衍射图 硅薄膜
ISSN号0255-8297
中文摘要在室温条件下用脉冲Nd:YAP激光器将光束聚焦在硅片上,使硅原子蒸气在不同基板上沉积成膜.激光器脉宽为300~400微秒,长脉冲经一级放大后在1.075μm波段的能量为每个脉冲8焦尔.蒸发池子用一台机械泵抽到真空度1×1~(-2)乇,用石英或玻璃作窗口.沉积的薄膜具有银灰色光泽.用X射线衍射和金相显微分析法证明所获得的是多晶硅薄膜.
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2012-06-14
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/46446]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
杨静然,王连杰. 用Nd:YAP激光器诱导蒸气沉积硅薄膜[J]. 应用科学学报,1985,3(3):274-276.
APA 杨静然,&王连杰.(1985).用Nd:YAP激光器诱导蒸气沉积硅薄膜.应用科学学报,3(3),274-276.
MLA 杨静然,et al."用Nd:YAP激光器诱导蒸气沉积硅薄膜".应用科学学报 3.3(1985):274-276.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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