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有机金属化合物化学气相沉积法

文献类型:期刊论文

作者李春鸿
刊名功能材料
出版日期1985
卷号16期号:5页码:284-289
关键词有机金属化合物 反应室 化合物半导体 烷基化合物 化学气相沉积法 气相外延 热分解反应 反应物质 新技术
ISSN号1001-9731
通讯作者李春鸿
中文摘要一、前言有机金属化合物化学气相沉积法简称MOCVD法(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)或有机金属化合物气相外延法(Metal Organic Vapor Phase Epitaxy)简称MOVPE或OMVPE法。它是把反应物质全部以有机金属化合物的气体分子形式,用H_2气作载带气体送到反应室,进行热分解反应而形成化合物半导体的一种新技术。由于它用控制气体流量的方法,容易改变化合物的组成及掺杂浓度,同时所用的设备比较简单,生长速度快,周期短,而且有可能进行批量生产。目前,在半导体器件工艺中开始应用和受到重视。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2012-06-14
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/46620]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
李春鸿. 有机金属化合物化学气相沉积法[J]. 功能材料,1985,16(5):284-289.
APA 李春鸿.(1985).有机金属化合物化学气相沉积法.功能材料,16(5),284-289.
MLA 李春鸿."有机金属化合物化学气相沉积法".功能材料 16.5(1985):284-289.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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