低温氢等离子体处理火花源质谱分析样品
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王子树 ; 那镓 |
| 刊名 | 质谱学报
 |
| 出版日期 | 1984 |
| 卷号 | 5期号:1页码:15-20 |
| 关键词 | 还原速率 不导电 火花源 金属化合物 干扰谱 还原处理 试剂空白 质谱分析 石墨粉 灵敏度 |
| ISSN号 | 1004-2997 |
| 中文摘要 | 本工作提出了用低温氢等离子体还原绝缘体样品使其导电的新方法,该法与掺导电粉的方法比较,有不易沾污样品、灵敏度高、减少试剂空白和干扰谱线等优点。为应用和对比,做了一些金属化合物的还原处理,并进行了火花源质谱分析,从提高还源速率的角度选择了最佳还原条件。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-06-15 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/46826]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王子树,那镓. 低温氢等离子体处理火花源质谱分析样品[J]. 质谱学报,1984,5(1):15-20. |
| APA | 王子树,&那镓.(1984).低温氢等离子体处理火花源质谱分析样品.质谱学报,5(1),15-20. |
| MLA | 王子树,et al."低温氢等离子体处理火花源质谱分析样品".质谱学报 5.1(1984):15-20. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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