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化学修饰电极的研究 Ⅵ.聚乙烯二茂铁膜电极的表面表征和组成

文献类型:期刊论文

作者董绍俊 ; 刘柏峰 ; 程广金 ; 李少羽 ; 陈骅
刊名化学学报
出版日期1984
卷号42期号:8页码:779-784
关键词伏安行为 化学修饰电极 等离子体法 伏安特性 制备条件 二茂铁 聚乙烯 膜电极
ISSN号0567-7351
通讯作者董绍俊
中文摘要本文研究了用等离子体法在玻璃炭上制备聚乙烯二茂铁(PPVF)膜电极的伏安行为及其XPS分析.结果表明PPVF膜电极的伏安行为和组成均与其制备条件有关.PPVF膜电极的二茂铁与二茂正铁之间的氧化还原反应是在电极上快速进行电荷转移的电化学过程.PPVF膜电极的伏安特性受膜中电活性物量、膜的厚度和组成的影响.伏安法和XPS法都可以用来表征PPVF膜制备条件的变化.
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2012-06-15
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/46885]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
董绍俊,刘柏峰,程广金,等. 化学修饰电极的研究 Ⅵ.聚乙烯二茂铁膜电极的表面表征和组成[J]. 化学学报,1984,42(8):779-784.
APA 董绍俊,刘柏峰,程广金,李少羽,&陈骅.(1984).化学修饰电极的研究 Ⅵ.聚乙烯二茂铁膜电极的表面表征和组成.化学学报,42(8),779-784.
MLA 董绍俊,et al."化学修饰电极的研究 Ⅵ.聚乙烯二茂铁膜电极的表面表征和组成".化学学报 42.8(1984):779-784.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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