用微量羰基分析法早期预测聚烯烃薄膜的耐候性
文献类型:期刊论文
作者 | 陈忠汉 ; 宋玉春 |
刊名 | 塑料工业
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出版日期 | 1982 |
期号 | 2页码:42-46 |
关键词 | 低密度聚乙烯 羰基 光稳定剂 耐候性 开发研究 稳定体系 聚烯烃薄膜 加工条件 配方设计 聚合物薄膜 |
ISSN号 | 1005-5770 |
中文摘要 | 利用我们所建立的微量羧基分析法,考察了一系列含有光稳定剂的聚烯烃薄膜在户外的暴露效应。结果表明,用这种方法所监测的不同薄模中微量羰基生成的相对速率,与用红外光谱法所得的结果完全一致,但用本方法则观测期可大大缩短,这就为目前迫切需要解决的薄膜配方设计和光稳定剂开发研究中耐候性的评价,提供了一种早期的预测方法。 |
收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-06-15 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/47223] ![]() |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈忠汉,宋玉春. 用微量羰基分析法早期预测聚烯烃薄膜的耐候性[J]. 塑料工业,1982(2):42-46. |
APA | 陈忠汉,&宋玉春.(1982).用微量羰基分析法早期预测聚烯烃薄膜的耐候性.塑料工业(2),42-46. |
MLA | 陈忠汉,et al."用微量羰基分析法早期预测聚烯烃薄膜的耐候性".塑料工业 .2(1982):42-46. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
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