磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张勇 ; 曹尔妍
|
| 刊名 | 中国有色金属学报
 |
| 出版日期 | 2001 |
| 卷号 | 11期号:S1页码:179-182 |
| ISSN号 | 1004-0609 |
| 中文摘要 | 介绍了利用过滤电弧离子镀沉积(TiAl) N 薄膜初步的研究结果。在电弧靶材前沿的磁场作用下, 有效 减小了薄膜的宏观颗粒尺寸, 并极大地降低了颗粒密度。同时, 过滤电弧的作用, 使偏压对膜成分的影响减弱, 薄膜的硬度随膜中铝含量的增加而提高, (TiAl) N 的抗氧化能力明显提高。 |
| 学科主题 | 力学 |
| 收录类别 | 其他 |
| 公开日期 | 2007-06-15 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/15758]  |
| 专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张勇,曹尔妍. 磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响[J]. 中国有色金属学报,2001,11(S1):179-182. |
| APA | 张勇,&曹尔妍.(2001).磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响.中国有色金属学报,11(S1),179-182. |
| MLA | 张勇,et al."磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响".中国有色金属学报 11.S1(2001):179-182. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。