高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘江峰 ; 包良满 ; 李晓林 |
| 刊名 | 核技术
 |
| 出版日期 | 2009 |
| 期号 | 6 |
| 关键词 | 微结构 质子束刻写 无掩模 光刻胶 |
| 通讯作者 | 刘江峰 |
| 中文摘要 | 在中国科学院上海应用物理研究所的扫描质子微探针装置上,研制了图形化扫描器,同时研究了适合质子束刻写的光刻胶制备、显影、定影技术。在此基础上,开展高能聚焦质子束无掩模刻写实验,在厚度约11μm的PMMA光刻胶上刻写出高纵横比的任意图案,取得了初步质子刻写结果,为进一步开展质子纳米束刻写奠定基础。 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-05-23 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/8369]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2004-2010年 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘江峰,包良满,李晓林. 高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步[J]. 核技术,2009(6). |
| APA | 刘江峰,包良满,&李晓林.(2009).高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步.核技术(6). |
| MLA | 刘江峰,et al."高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步".核技术 .6(2009). |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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