13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱伟忠 ; 吴衍青 ; 陈敏 ; 王纳秀 ; 邰仁忠 ; 徐洪杰 |
| 刊名 | 光学学报
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| 出版日期 | 2008-07-15 |
| 期号 | 07 |
| 关键词 | 干涉光刻 软X射线透射光栅 严格耦合波方法 复折射率 衍射效率 |
| 通讯作者 | 朱伟忠 |
| 中文摘要 | 基于严格的矢量耦合波方法,结合纳米级光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响。结果表明,在此波段处,Si3N4、Cr、Au浮雕的相位作用对光栅衍射起重要影响,其中非金属材料Si3N4比金属材料Cr、Au的相位作用更明显。最后优化得到了用Si(或Si3N4)做衬底的Si3N4、Cr、Au光栅,分析结果显示,其一级衍射效率优于目前用于13.4 nm软X射线干涉光刻的Cr、Si3N4复合光栅。 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-06-06 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/9024]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2004-2010年 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱伟忠,吴衍青,陈敏,等. 13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计[J]. 光学学报,2008(07). |
| APA | 朱伟忠,吴衍青,陈敏,王纳秀,邰仁忠,&徐洪杰.(2008).13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计.光学学报(07). |
| MLA | 朱伟忠,et al."13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计".光学学报 .07(2008). |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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