一种实现可控纳米定位沉积的探针修饰新方法
文献类型：期刊论文
| 作者 | 闫树华 ; 李宾 |
| 刊名 | 核技术
 |
| 出版日期 | 2008-03-10 |
| 期号 | 03 |
| 关键词 | 蘸笔纳米刻蚀技术 DNA 纳米点阵 探针修饰 |
| 通讯作者 | 闫树华 |
| 中文摘要 | 报道了一种应用原子力显微镜(AFM)实现可控纳米定位沉积的探针修饰新方法。采用改进的AFM探针修饰方法—AFM系统控制的自动进针法—替代通常的将探针浸入"墨水"的直接蘸针法,可控制"墨水"吸附在探针的针尖末端,有效避免纳米点制造过程中非定位沉积的干扰。利用该方法修饰的探针可在DNA分子上可控制备氯化铜溶液纳米点阵,这为生物大分子的局部修饰、加工和改造提供有效途径。 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-06-06 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/9109]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2004-2010年 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闫树华,李宾. 一种实现可控纳米定位沉积的探针修饰新方法[J]. 核技术,2008(03). |
| APA | 闫树华,&李宾.(2008).一种实现可控纳米定位沉积的探针修饰新方法.核技术(03). |
| MLA | 闫树华,et al."一种实现可控纳米定位沉积的探针修饰新方法".核技术 .03(2008). |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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