Shanghai electron beam ion trap: Design and current status
文献类型:会议论文
作者 | Zhu, XK ; Shugang, S ; Yan, HP(阎和平) ; Gong, PR(龚培龙) ; Wang, N(王纳秀) ; Shi, WG ; Chen, YL ; Xu, XY ; Feng, SQ ; Zhou, TT |
出版日期 | 2004 |
会议名称 | 9th International Symposium on Electron Beam Ion Sources and Traps and Their Applications |
会议日期 | APR 15-17, 2004 |
会议地点 | Tokyo, JAPAN |
页码 | 65 |
收录类别 | SCI |
会议录 | Ninth International Symposium on Electron Beam Ion Sources and Traps and Their Applications
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语种 | 英语 |
ISSN号 | 1742-6588 |
源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/8892] ![]() |
专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2004-2010年 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhu, XK,Shugang, S,Yan, HP,et al. Shanghai electron beam ion trap: Design and current status[C]. 见:9th International Symposium on Electron Beam Ion Sources and Traps and Their Applications. Tokyo, JAPAN. APR 15-17, 2004. |
入库方式: OAI收割
来源:上海应用物理研究所
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