能量过滤磁控溅射技术制备ITO 薄膜及其特性研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王英俭
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| 刊名 | 真空科学与技术学报
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| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 31期号:3 |
| 学科主题 | 光学材料研究 |
| 公开日期 | 2012-07-11 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/6236]  |
| 专题 | 合肥物质科学研究院_中科院安徽光学精密机械研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王英俭. 能量过滤磁控溅射技术制备ITO 薄膜及其特性研究[J]. 真空科学与技术学报,2011,31(3). |
| APA | 王英俭.(2011).能量过滤磁控溅射技术制备ITO 薄膜及其特性研究.真空科学与技术学报,31(3). |
| MLA | 王英俭."能量过滤磁控溅射技术制备ITO 薄膜及其特性研究".真空科学与技术学报 31.3(2011). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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