Enhanced Thermopower of Graphene Films with Oxygen Plasma Treatment
文献类型：期刊论文
| 作者 | Huang, W ; Zhang, H; Zhang, H; Liu, DY; Zhang, H; Zhao, Y
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| 刊名 | acs nano
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| 出版日期 | 2011-04-01 |
| 卷号 | 5期号:4 |
| 学科主题 | 纳米材料与技术 |
| 公开日期 | 2012-07-12 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/6432]  |
| 专题 | 合肥物质科学研究院_中科院固体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Huang, W,Zhang, H,Zhang, H,et al. Enhanced Thermopower of Graphene Films with Oxygen Plasma Treatment[J]. acs nano,2011,5(4). |
| APA | Huang, W,Zhang, H,Zhang, H,Liu, DY,Zhang, H,&Zhao, Y.(2011).Enhanced Thermopower of Graphene Films with Oxygen Plasma Treatment.acs nano,5(4). |
| MLA | Huang, W,et al."Enhanced Thermopower of Graphene Films with Oxygen Plasma Treatment".acs nano 5.4(2011). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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