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1.531 m 附近NH3分子痕量探测

文献类型:期刊论文

作者赵卫雄; 高晓明; 张为俊
刊名光谱学与光谱分析
出版日期2009
卷号29期号:12
学科主题光谱分析与技术
公开日期2012-07-13
源URL[http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/6694]  
专题合肥物质科学研究院_中科院安徽光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
赵卫雄,高晓明,张为俊. 1.531 m 附近NH3分子痕量探测[J]. 光谱学与光谱分析,2009,29(12).
APA 赵卫雄,高晓明,&张为俊.(2009).1.531 m 附近NH3分子痕量探测.光谱学与光谱分析,29(12).
MLA 赵卫雄,et al."1.531 m 附近NH3分子痕量探测".光谱学与光谱分析 29.12(2009).

入库方式: OAI收割

来源:合肥物质科学研究院

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