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纳米折叠InGaN/GaN LED材料生长及器件特性

文献类型:期刊论文

作者谭小动; 朱建军; 赵德刚; 张书明
刊名物理学报
出版日期2011
卷号60期号:7页码:076104-1-076104-4
中文摘要在以自组织Ni纳米岛为掩膜制作的n-GaN纳米柱上,利用MOCVD方法外延生长了具有折叠InGaN/GaN多量子阱(MQW)的LED结构外延片,进而制作了LED器件.外延片上中下游的光致荧光测试,结果表明外延片具有很好的均匀性.用该外延片制作的LED的电致发光谱,随注入电流增加没有明显蓝移,这表明纳米结构能更好地释放应力,纳米柱上外延生长的多量子阱,具有较低的压电极化电场.正向工作电流20mA时,LED器件的工作电压为4.6V.
学科主题光电子学
收录类别CSCD
资助信息天津市自然科学基金,中国科学院半导体研究所集成光电子国家重点实验室资助的课题
语种中文
公开日期2012-07-17
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23280]  
专题半导体研究所_集成光电子学国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
谭小动,朱建军,赵德刚,等. 纳米折叠InGaN/GaN LED材料生长及器件特性[J]. 物理学报,2011,60(7):076104-1-076104-4.
APA 谭小动,朱建军,赵德刚,&张书明.(2011).纳米折叠InGaN/GaN LED材料生长及器件特性.物理学报,60(7),076104-1-076104-4.
MLA 谭小动,et al."纳米折叠InGaN/GaN LED材料生长及器件特性".物理学报 60.7(2011):076104-1-076104-4.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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