全息移相干涉技术显示低密度流场的能力
文献类型：期刊论文
| 作者 | 胡金铭 ; 束继祖
|
| 刊名 | 力学学报
 |
| 出版日期 | 1979 |
| 期号 | 2页码:171-177 |
| 关键词 | 移相干涉技术 两次曝光 低密度流 相位调节器 全息干涉 移相技术 流场 高灵敏度 参考光 |
| ISSN号 | 0459-1879 |
| 通讯作者 | 李华煜 |
| 中文摘要 | 本文介绍一个值得注意的高灵敏度全息干涉方法.文献[2]指出,在全息干涉两次曝光间对参考光移相,可以提高灵敏度,并报道了移相π/2时的实验结果.本文详细分析了移相技术,指出此法在移相π/2时的分辨率可高达1/1000波长左右,比普通两次曝光全息技术(其移相值为0)的灵敏度高25.4倍;并指出,移相值大于π/2小于π时灵敏度可以进一步提高,最佳移相值应在π附近.本文附有一个低密度变化流场的实验结果,说明本方法显示低密度变化流场的能力.讨论了应用中的一些问题. |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-08-03 ; 2010-08-20 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/38574]  |
| 专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 胡金铭,束继祖. 全息移相干涉技术显示低密度流场的能力[J]. 力学学报,1979(2):171-177. |
| APA | 胡金铭,&束继祖.(1979).全息移相干涉技术显示低密度流场的能力.力学学报(2),171-177. |
| MLA | 胡金铭,et al."全息移相干涉技术显示低密度流场的能力".力学学报 .2(1979):171-177. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。