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Fabrication of horizontal silicon nanowire arrays on insulator by ion irradiation

文献类型:期刊论文

作者Ou, Xin ; ; gler, Reinhard ; Wei, Xing ; ; cklich, Arndt ; Wang, X ; Skorupa, Wolfgang ; Facsko, Stefan
刊名AIP Advances.
出版日期2011
卷号1期号:4
ISSN号21583226
通讯作者Ou, X.(X.oU@hzdr.de)
公开日期2012-08-28
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/109339]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
Ou, Xin,Kö,gler, Reinhard,et al. Fabrication of horizontal silicon nanowire arrays on insulator by ion irradiation[J]. AIP Advances.,2011,1(4).
APA Ou, Xin.,Kö.,gler, Reinhard.,Wei, Xing.,Mü.,...&Facsko, Stefan.(2011).Fabrication of horizontal silicon nanowire arrays on insulator by ion irradiation.AIP Advances.,1(4).
MLA Ou, Xin,et al."Fabrication of horizontal silicon nanowire arrays on insulator by ion irradiation".AIP Advances. 1.4(2011).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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