一种适合分子束外延制备氧化物薄膜的方法 (发明)
文献类型：专利
| 作者 | 申德振 ; 李炳辉; 赵东旭
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| 发表日期 | 2006-05-31 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 中文摘要 | 本发明属于半导体材料技术领域，涉及一种利用分子束外延制备氧化物薄膜的方法，将传统的分子束外延设备改造成等离子体协助分子束外延，发挥分子束外延技术在制备材料方面的优势，获得研究和制备氧化锌薄膜器件的最佳方法。利用射频等离子体源将氧气活化，变成氧原子再引进到生长室，有效地降低了生长温度，同时利用铂金丝缠绕在由高纯陶瓷制成的…… |
| 公开日期 | 2006-05-31 |
| 专利申请号 | 3110865.2 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11047]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 申德振,李炳辉,赵东旭. 一种适合分子束外延制备氧化物薄膜的方法 (发明). 2006-05-31. |
入库方式： OAI收割
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