一种场发射显示器件中阳极屏的制备方法 (发明)
文献类型:专利
作者 | 蒋红![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2012-07-25 |
专利类型 | 发明专利 |
权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
中文摘要 | 一种场发射显示器件中阳极屏的制备方法,涉及场发射显示器件领域,它解决了现有制作场发射阳极屏时存在ITO电极条局部区域绝缘性低而产生干扰亮点,并且ITO层和衬底玻璃表面的视觉反差小,造成ITO条图形不清楚的问题,将ITO玻璃采用光刻方法进行光刻、腐蚀,采用ITO玻璃深化腐蚀液对ITO玻璃进行深化腐蚀;对深化腐蚀后的ITO…… |
公开日期 | 2012-07-25 |
专利申请号 | 201010228991.0 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11769] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 蒋红,缪国庆,缪国庆,等. 一种场发射显示器件中阳极屏的制备方法 (发明). 2012-07-25. |
入库方式: OAI收割
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