一种采用均匀进气系统的原子层沉积装置 (发明)
文献类型：专利
| 作者 | 李炳辉 ; 申德振; 王双鹏
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| 发表日期 | 2012-01-11 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 中文摘要 | 一种采用均匀进气系统的原子层沉积装置，涉及一种原子层沉积装置。它解决现有技术中前驱体与衬底或上一原子层接触的均匀性差、反应物利用率低和材料生长周期长导致的沉积效率低问题。该装置包括反应腔室、第一前驱体容器、第二前驱体容器、辅助吹扫气体容器、第一气体供应管路、第二气体供应管路、辅助吹扫气体供应管路、均匀进气系统和腔体盖等…… |
| 公开日期 | 2012-08-29 |
| 专利申请号 | 201110262384.0 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12021]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李炳辉,申德振,王双鹏. 一种采用均匀进气系统的原子层沉积装置 (发明). 2012-01-11. |
入库方式： OAI收割
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