双层双面平面微线圈 (实用新型)
文献类型：专利
| 作者 | 吴一辉 ; 梁静秋
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| 发表日期 | 2004-08-18 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 中文摘要 | 本实用新型属于微机械构件，涉及一种对微型平面线圈的改进。包括：衬底１、上、下绝缘层２、３，上、下一层电铸阴极４、５，上、下一层微线圈６、７，上、下一层微线圈绝缘层８、９，上二层电铸阴极１０、１６，下二层电铸阴极１１、１７，上、下二层微线圈１２、１３，上、下保护层１４、１５，上、下附加磁芯１８、１９，磁芯２０，解决了单面…… |
| 公开日期 | 2004-08-18 |
| 专利申请号 | 3212217.9 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12377]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴一辉,梁静秋. 双层双面平面微线圈 (实用新型). 2004-08-18. |
入库方式： OAI收割
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