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一种用于投影显示的新型光源装置 (实用新型)

文献类型:专利

作者张新
发表日期2006-05-10
专利类型实用新型
权利人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中文摘要本实用新型属于投影显示光学技术领域,涉及一种用于投影显示系统的光源装置。由阵列光源1、菲涅尔透镜2、透镜组3、空间光调制4组成。阵列光源(1)位于菲涅尔透镜(2)的焦面(5)位置,阵列光源(1)发出的光线经过菲涅尔透镜(2)的准直,透镜组(3)的入瞳位置(6)和菲涅尔透镜(2)的出瞳位置(7)相重合,空间光调制器(4)……
公开日期2006-05-10
专利申请号200420012849.2
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12576]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
张新. 一种用于投影显示的新型光源装置 (实用新型). 2006-05-10.

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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