一种用于投影显示的新型光源装置 (实用新型)
文献类型:专利
作者 | 张新![]() |
发表日期 | 2006-05-10 |
专利类型 | 实用新型 |
权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
中文摘要 | 本实用新型属于投影显示光学技术领域,涉及一种用于投影显示系统的光源装置。由阵列光源1、菲涅尔透镜2、透镜组3、空间光调制4组成。阵列光源(1)位于菲涅尔透镜(2)的焦面(5)位置,阵列光源(1)发出的光线经过菲涅尔透镜(2)的准直,透镜组(3)的入瞳位置(6)和菲涅尔透镜(2)的出瞳位置(7)相重合,空间光调制器(4)…… |
公开日期 | 2006-05-10 |
专利申请号 | 200420012849.2 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12576] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张新. 一种用于投影显示的新型光源装置 (实用新型). 2006-05-10. |
入库方式: OAI收割
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