一种用于投影显示的新型光源装置 (实用新型)
文献类型：专利
| 作者 | 张新
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| 发表日期 | 2006-05-10 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 中文摘要 | 本实用新型属于投影显示光学技术领域，涉及一种用于投影显示系统的光源装置。由阵列光源１、菲涅尔透镜２、透镜组３、空间光调制４组成。阵列光源（１）位于菲涅尔透镜（２）的焦面（５）位置，阵列光源（１）发出的光线经过菲涅尔透镜（２）的准直，透镜组（３）的入瞳位置（６）和菲涅尔透镜（２）的出瞳位置（７）相重合，空间光调制器（４）…… |
| 公开日期 | 2006-05-10 |
| 专利申请号 | 200420012849.2 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12576]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张新. 一种用于投影显示的新型光源装置 (实用新型). 2006-05-10. |
入库方式： OAI收割
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