N型磷化铟欧姆接触制造方法 (发明)
文献类型:专利
作者 | 王立军![]() |
发表日期 | 1999-07-07 |
专利号 | 1221978 |
专利类型 | 发明专利 |
权利人 | 中国科学院长春物理研究所 |
中文摘要 | 一种n-InP欧姆接触的制造方法,属于半导体技术领域,通过向浓度为1×10↑[18]cm↑[-3]的N型InP表面依次蒸镀一定厚度的AuSb、AuGeNi和高纯Au使欧姆接触由常规法的4×10↑[-6]Ω.cm↑[2]降到8×10↑[-7]Ω.cm↑[2],有…… |
公开日期 | 2012-09-14 |
申请日期 | 1997-12-27 |
语种 | 中文 |
专利申请号 | 97119870.5 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12717] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王立军. N型磷化铟欧姆接触制造方法 (发明). 1221978. 1999-07-07. |
入库方式: OAI收割
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