用于光学加工的真空自励研磨抛光工具 （实用新型）
文献类型：专利
| 作者 | 张忠玉
|
| 发表日期 | 1999-12-08 |
| 专利号 | 2352308 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械研究所 |
| 中文摘要 | 本实用新型属于光学加工技术领域，涉及对研磨抛光工具的一种改进。它由抛光体１、基座２、液体通孔３、管接头４、真空泵５、球头６、驱动杆７、供液泵８、管接头９、液体通孔１０、正压微孔１１、正压工作室１２、抛光工作面１３、负压工作室１４和负压微孔１５组成，本实用新型能…… |
| 公开日期 | 1999-12-08 |
| 申请日期 | 1998-07-08 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 98216976 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12886]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张忠玉. 用于光学加工的真空自励研磨抛光工具 （实用新型）. 2352308. 1999-12-08. |
入库方式： OAI收割
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