SiH4与Na、Mg和Be等金属氢化物分子间反向氢键相互作用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张俊彦
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| 刊名 | 中国科学
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| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 40期号:12页码:1837-1845 |
| 关键词 | 甲硅烷 金属氢化物 反向氢键 电子密度拓扑性质 |
| ISSN号 | 1006-9232 |
| 通讯作者 | 袁焜 ; 朱元成 |
| 中文摘要 | 在 B3LYP/6-311++g**、 MP2/6-311++g(3df,3pd)及 MP2/aug-cc-pvtz水平上分别求得 H3SiH…MeHn(Me=Na, Mg, Be; n=1 或 2)复合物势能面上的 3 个稳定构型, 探讨了以Si-H 为电子供体的红移反向氢键相互作用(IHB). 经 MP2/6-311++g (3df,3pd)水平的计算, 在 3个复合物中, 含基组重叠误差(BSSE)校正的单体间相互作用能分别为−5.98、−8.65和−3.96 kJ·mol−1, 与 MP2/aug-cc-pvtz水平下计算得到的−6.18、−9.12和−4.28 kJ·mol−1接近, 可见 3个反向氢键复合物的相对稳定性顺序为: SiH4···MgH2 > SiH4···NaH > SiH4···BeH2. NBO 分析及对相关原子化学位移的计算表明, 在复合物中, 电子流向总体表现为SiH4→MeHn (n=1或2), 且直接参与反向氢键形成的H3的化学位移向低场移动. 与传统氢键相比, 这里 Si1-H3 既是氢键供体, 又是电子供体, 从而形成反向氢键相互作用. 另外, 采用分子中原子理论(AIM)分别对各复合物中相关键鞍点处的电子密度拓扑性质进行了分析, 结果表明 3个复合物中均存在以静电性质为主的分子间反向氢键弱相互作用. |
| 学科主题 | 材料科学与物理化学 |
| 收录类别 | SCI |
| 资助信息 | 国家自然基金(50975273);天水师范学院“青蓝”人才工程项目资助 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-09-28 |
| 源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/1148]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张俊彦. SiH4与Na、Mg和Be等金属氢化物分子间反向氢键相互作用[J]. 中国科学,2010,40(12):1837-1845. |
| APA | 张俊彦.(2010).SiH4与Na、Mg和Be等金属氢化物分子间反向氢键相互作用.中国科学,40(12),1837-1845. |
| MLA | 张俊彦."SiH4与Na、Mg和Be等金属氢化物分子间反向氢键相互作用".中国科学 40.12(2010):1837-1845. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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