基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理
文献类型:期刊论文
作者 | 李文昊 ; 巴音贺希格 ; 齐向东 |
刊名 | 微细加工技术
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出版日期 | 2007-02-15 |
期号 | 1 |
关键词 | 全息光栅 光刻胶热熔法 离子束刻蚀 原子力显微镜 |
ISSN号 | 1003-8213 |
中文摘要 | 根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响。实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀。结果表明,利用表面张力作用可使熔融状态下的光刻胶光栅刻槽表面变得平滑,粗糙度降低,并且成功地在K9玻璃基底上得到了槽形较好的全息光栅。 |
公开日期 | 2012-09-25 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21228] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李文昊,巴音贺希格,齐向东. 基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理[J]. 微细加工技术,2007(1). |
APA | 李文昊,巴音贺希格,&齐向东.(2007).基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理.微细加工技术(1). |
MLA | 李文昊,et al."基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理".微细加工技术 .1(2007). |
入库方式: OAI收割
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