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基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理

文献类型:期刊论文

作者李文昊 ; 巴音贺希格 ; 齐向东
刊名微细加工技术
出版日期2007-02-15
期号1
关键词全息光栅 光刻胶热熔法 离子束刻蚀 原子力显微镜
ISSN号1003-8213
中文摘要根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响。实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀。结果表明,利用表面张力作用可使熔融状态下的光刻胶光栅刻槽表面变得平滑,粗糙度降低,并且成功地在K9玻璃基底上得到了槽形较好的全息光栅。
公开日期2012-09-25
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21228]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
李文昊,巴音贺希格,齐向东. 基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理[J]. 微细加工技术,2007(1).
APA 李文昊,巴音贺希格,&齐向东.(2007).基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理.微细加工技术(1).
MLA 李文昊,et al."基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理".微细加工技术 .1(2007).

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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