闭磁场非平衡磁控溅射在光学薄膜中的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈楠 ; 贾克辉 ; 卜轶坤 |
| 刊名 | 光机电信息
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| 出版日期 | 2007-09-25 |
| 期号 | 9 |
| 关键词 | 闭磁场 光学薄膜 磁控溅射 |
| ISSN号 | 1007-1180 |
| 中文摘要 | 介绍了一种制备高质量光学薄膜的新型闭磁场磁控溅射技术。该技术具有高束流密度和低内应力,可以在高沉积速率条件下制备性能极佳的精密光学薄膜。采用精密的单轴圆鼓基板系统,可显著提高批量镀膜的能力。 |
| 公开日期 | 2012-09-25 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21352]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈楠,贾克辉,卜轶坤. 闭磁场非平衡磁控溅射在光学薄膜中的应用[J]. 光机电信息,2007(9). |
| APA | 陈楠,贾克辉,&卜轶坤.(2007).闭磁场非平衡磁控溅射在光学薄膜中的应用.光机电信息(9). |
| MLA | 陈楠,et al."闭磁场非平衡磁控溅射在光学薄膜中的应用".光机电信息 .9(2007). |
入库方式： OAI收割
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