紫外ICCD面均匀性测试技术研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 隋永新 ; 闫丰; 周跃; 杨怀江
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| 刊名 | 光学技术
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| 出版日期 | 2008-11-15 |
| 期号 | 6 |
| 关键词 | 紫外ICCD 标准氘灯 面均匀性 |
| ISSN号 | 1002-1582 |
| 中文摘要 | 以辐射度学为理论基础,研究了紫外ICCD(UV-ICCD)面的响应均匀性测试技术。论述了200～300nmUV-IOED面均匀性的测试方案。使用入射口径为100μm的光谱仪对UV-ICCD靶面处的均匀性进行了测试。测试结果表明,靶面处辐照度场的不均匀性不高于1.6%。在对靶面处的均匀性进行测试的基础上,对UV-ICCD面的均匀性进行了实际测量,并进行了不确定度分析。结果表明,该方案可应用于UV-ICLD光电探测器件的面均匀性测量。 |
| 公开日期 | 2012-09-25 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21413]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 隋永新,闫丰,周跃,等. 紫外ICCD面均匀性测试技术研究[J]. 光学技术,2008(6). |
| APA | 隋永新,闫丰,周跃,&杨怀江.(2008).紫外ICCD面均匀性测试技术研究.光学技术(6). |
| MLA | 隋永新,et al."紫外ICCD面均匀性测试技术研究".光学技术 .6(2008). |
入库方式： OAI收割
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