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基于有限元法的激光横向刻蚀路径对片阻阻值影响的研究

文献类型:期刊论文

作者王志娟 ; 郑玉彤 ; 闫晓东 ; 汤建华
刊名电子器件
出版日期2008-06-15
期号3
关键词激光调阻 调阻精度 横向刻蚀长度 横向起刻位置 有限元法
ISSN号1005-9490
中文摘要应用激光对片阻阻值进行修调时,垂直于电流方向的横向刻蚀对片阻的阻值影响较大,合理设计横向刻蚀的起刻位置和刻蚀长度能够以较低成本提高激光调阻精度及调阻效率。应用有限元法可得激光横向刻蚀长度和横向起刻位置对片阻阻值影响的定性、定量结论。经实验验证:应用有限元法得到的横向刻蚀路径对阻值影响的定性结论与实验结论一致、定量结论的计算偏差不大于2%,能够为提高调阻精度和调阻效率提供控制依据。
公开日期2012-09-25
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21663]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
王志娟,郑玉彤,闫晓东,等. 基于有限元法的激光横向刻蚀路径对片阻阻值影响的研究[J]. 电子器件,2008(3).
APA 王志娟,郑玉彤,闫晓东,&汤建华.(2008).基于有限元法的激光横向刻蚀路径对片阻阻值影响的研究.电子器件(3).
MLA 王志娟,et al."基于有限元法的激光横向刻蚀路径对片阻阻值影响的研究".电子器件 .3(2008).

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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