用电化学方法消除4J32镜头组件的杂散光
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张忠玉
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| 刊名 | 光学精密工程
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| 出版日期 | 2008-08-15 |
| 期号 | 8 |
| 关键词 | 4J32合金 精密光学系统 电化学方法 杂散光 |
| ISSN号 | 1004-924X |
| 中文摘要 | 研究了采用电化学方法消除精密光学系统4J32合金镜头组件中杂散光的实验。利用正交实验法在重铬酸盐体系中确定了主盐浓度,并研究了电压、电解液温度、时间等因素对镜头组件的消杂散光性能和消光膜层质量的影响,确定了最佳工艺为重铬酸钾:20g/L、硫酸锰:20g/L、硫酸铵:20g/L、添加剂15g/L,温度:25~35℃,3V/min升压速率处理20~30min。经最佳工艺处理后,4J32合金呈黑色,反射率<1.5%、耐蚀性为240s、膜层附着力为7.9N、尺寸变化<0.8μm。结果表明,所得到的消光膜能够满足精密光学系统对零件尺寸精度及表面消光膜层的质量要求。 |
| 公开日期 | 2012-09-25 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21739]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张忠玉. 用电化学方法消除4J32镜头组件的杂散光[J]. 光学精密工程,2008(8). |
| APA | 张忠玉.(2008).用电化学方法消除4J32镜头组件的杂散光.光学精密工程(8). |
| MLA | 张忠玉."用电化学方法消除4J32镜头组件的杂散光".光学精密工程 .8(2008). |
入库方式： OAI收割
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