基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吴娜 ; 张善文 ; 宋可平 ; 巴音贺希格 ; 齐向东 ; 高键翔 |
| 刊名 | 光学精密工程
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| 出版日期 | 2009-07-15 |
| 期号 | 7 |
| 关键词 | 光学头 分束光栅 精密刻划 镀膜技术 加工工艺 |
| ISSN号 | 1004-924X |
| 中文摘要 | 给出了采用光栅刻划和镀膜技术相结合研制光盘分束光栅的方法。采用光栅刻划机在金属膜上刻制占宽比为0.5的黑白光栅,并由黑白光栅翻制出制作光盘分束光栅的掩模版。通过掩模版对涂覆在K9玻璃基底上的光刻胶实施曝光和显影形成光刻胶矩形浮雕光栅,在理论设计的误差允许范围内,对此浮雕光栅沉积SiO2薄膜,去除残余光刻胶后得到SiO2矩形光栅母版,再经复制工艺制作了环氧树脂光盘分束光栅。测试结果表明,利用光盘分束光栅的纵向和横向加工误差的互补性,可以将光栅辅助光束与读写主光束强度之比的误差控制在±0.03之内。 |
| 公开日期 | 2012-09-25 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/22143]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴娜,张善文,宋可平,等. 基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制[J]. 光学精密工程,2009(7). |
| APA | 吴娜,张善文,宋可平,巴音贺希格,齐向东,&高键翔.(2009).基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制.光学精密工程(7). |
| MLA | 吴娜,et al."基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制".光学精密工程 .7(2009). |
入库方式： OAI收割
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