平面电磁型微电机定转子制作工艺
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吴一辉
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| 刊名 | 微纳电子技术
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| 出版日期 | 2009-09-15 |
| 期号 | 9 |
| 关键词 | 微电机 大深宽比 平面线圈 深刻蚀 微电铸 |
| ISSN号 | 1671-4776 |
| 中文摘要 | 为了在平面微电机有限大尺寸的定子上制作大深宽比结构的绕组线圈,对大深宽比微结构的制作工艺进行了研究,综合比较各方面因素,从中找出了成品率高、可重复性好、工艺步骤简单的平面线圈的制作工艺,即在Si沟槽里通过微电铸得到大深宽比平面铜线圈的深刻蚀成型电铸工艺;分析了光刻工艺关键参数之间的关系及对后续工艺的影响。通过该工艺制作的直径10mm定子线圈深宽比较大(宽40μm、深80μm),且无空洞。该工艺有很大的深宽比挖掘潜力,也可应用在其他需要较大深宽比平面线圈的微执行器的制作中。 |
| 公开日期 | 2012-09-25 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/22219]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴一辉. 平面电磁型微电机定转子制作工艺[J]. 微纳电子技术,2009(9). |
| APA | 吴一辉.(2009).平面电磁型微电机定转子制作工艺.微纳电子技术(9). |
| MLA | 吴一辉."平面电磁型微电机定转子制作工艺".微纳电子技术 .9(2009). |
入库方式： OAI收割
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