刻制单模和折射率渐变少模光纤光栅的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王立军
|
| 刊名 | 半导体光电
 |
| 出版日期 | 2006-02-28 |
| 期号 | 1 |
| 关键词 | 折射率渐变 光纤Bragg光栅 相位掩模 少模光纤 |
| ISSN号 | 1001-5868 |
| 中文摘要 | 介绍了利用相位掩模技术刻制光纤Bragg光栅的基本原理,并利用相位掩模板技术在增敏后的光纤上刻制出了单模和折射率渐变少模光纤布拉格光栅。实验结果表明单模光纤光栅在1080nm波长附近透射谱的峰值达到了-49dB以上,几乎达到其理想值;刻制的折射率渐变少模光纤光栅的反射谱显示约有8个特征峰,其峰值约为7~8dB,反射率达到了80%以上,并对这种光纤光栅的反射谱进行了理论分析,结果表明理论与实验结果符合得较好。 |
| 公开日期 | 2012-09-25 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/24153]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王立军. 刻制单模和折射率渐变少模光纤光栅的研究[J]. 半导体光电,2006(1). |
| APA | 王立军.(2006).刻制单模和折射率渐变少模光纤光栅的研究.半导体光电(1). |
| MLA | 王立军."刻制单模和折射率渐变少模光纤光栅的研究".半导体光电 .1(2006). |
入库方式： OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。